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キヤノンは、10nm台の解像度での微細加工が可能なナノインプリント技術を用いた、次世代半導体製造装置を開発中であり、2015年内の製品化を目指すと発表した（発表資料）。ナノインプリント半導体製造装置は、マスクをウエハー上のレジストに直接押しつけることで、マスクに彫りこまれた回路パターンを忠実に転写する。大口径のレンズを搭載し、レーザー光の照射によって転写する光露光装置に比べ、高解像度で均一性のある回路パターンが描けるという。

キヤノンは2004年からナノインプリント技術の研究を続けており、2009年以降は、同技術を用いた次世代半導体製造装置の量産を目指して、大手半導体メーカーや米Molecular Imprints社（2014年4月に完全子会社化し、「Canon Nanotechnologies」に社名変更）と共同で開発してきた。欠陥制御技術の確立や重ね合わせ精度の向上など、技術開発が進んでいる。