量産対応EUVスキャナーの実現に大きく前進

ギガフォトンは2016年7月、開発中の極端紫外線（EUV：Extreme Ultraviolet）スキャナー用レーザー生成プラズマ（LPP：Laser Produced Plasma）光源のプロトタイプ機で発光効率4.0％、発光出力250wを達成したと発表した。この発光性能は、最先端半導体の量産ラインに適用可能なレベルにあるという。

ギガフォトンは、新エネルギー・産業技術総合開発機構（NEDO）の「戦略的省エネルギー技術革新プログラム事業」において、EUVスキャナー用LPP光源のプロトタイプ機を開発している。2015年には、エネルギー安定性が平均0.5％以下で、ロジックIC生産に適用可能なレベルといわれる発光出力108Wを達成し、24時間の連続運転に成功していた。

引き続き同社は、高出力で長期連続運転を目指して研究開発を行ってきた。その結果、今回は発光効率4.0％で、発光出力250Wの発光性能を達成することができた。しかも、最低130Wの出力で119時間の連続運転にも成功したという。

連続運転時の出力データ 出典：NEDO、ギガフォトン

ギガフォトンでは、半導体量産工場での稼働を想定したEUV光源高出力検証機も開発し、その運用を始めた。この高出力検証機では、省電力CO 2 レーザーの導入と、発光効率をさらに改善したEUV光源の性能実証を行っていく計画である。