Une puce 40 % plus rapide grâce à la gravure en 5 nm ?

Un chercheur présente un wafer de test gravé en 5 nm ; Crédits : IBM

La loi de Moore n'est pas encore morte

La gravure en 10 nm utilise un système de gravure appelé FinFET, mais ce nouveau processus industriel pourrait annoncer l'avenir des processeurs, alors que les constructeurs sont déjà en mesure de graver en 7 nm depuis un peu moins de deux ans.Selon le communiqué de presse d'IBM et de ses partenaires, cette nouvelle technologie permettra d'augmenter la rapidité des processeurs classiques de près de 40 %. Alors qu'il est aujourd'hui possible de stocker entre 10 et 15 milliards de transistors sur une puce gravée en 10 nm, la gravure en 5 nm devrait permettre d'en stocker, sur une puce de la même taille, le double, soit jusqu'à 30 milliards de transistors.Pour ce faire, la nouvelle technologie développée par IBM utilise des nanofeuilles de silicium empilées l'une sur l'autre. IBM a mis environ 10 ans pour développer cette technologie avec, à la clé, une meilleure performance énergétique : les puces consommeraient 75 % d'énergie de moins que les puces gravées avec la technologie FinFET (à performances égales avec une puce gravée en FinFET). Un gain d'énergie qui sera plus qu'utile pour améliorer l'autonomie des appareils mobiles comme les smartphones, mais également les objets connectés.La nouvelle technologie de gravure par nanofeuilles de silicium permet à IBM d'aller à contre-courant de la tendance qui dit que la première loi de Moore, énoncée en 1965, n'est pas morte. Selon Gordon Moore, fondateur d'Intel, le nombre de transistors sur un circuit double tous les deux ans. IBM a réussi une nouvelle fois ce pari.Plusieurs spécialistes estimaient en effet que la première loi de Moore ne serait bientôt plus d'actualité, bien qu'une marge existait : la gravure en 7 nm FinFET, permettant de stocker jusqu'à 20 milliards de transistors sur une puce de la taille d'un ongle (contre 10 à 15 milliards pour la gravure en 10 nm), est déjà à la portée des constructeurs.